EUV光刻机的核心技术，主要由三大系统构成。
首先是EUV光源系统，这个系统负责制造光刻过程中，需要用到的特殊光线。
从第一代的UV光刻机，到第五代的EUV光刻机，光线的波长也从436nm，缩短到了13.5nm，目前所有的光刻机，就是通过光线的不同，来区分技术等级的。
这其中主要涉及到的原理，就是光学中光线波长和清晰度的关系。
最简单的道理，就是进入黄色的钨丝灯房间，大部分人都会感觉视线昏暗，
哪怕多加几个灯泡，也始终感觉没有白色的LED灯那么明亮和清晰。
这就是因为黄色光的波长，要远高于白色光，
光线的波长，就像是海浪一样，越大的波浪，拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。
而这個水位的高低落差，换成在光学领域，就成了影响阴影边缘清晰度的重要因素。
因此，想要达到越小制程的芯片工艺，就需要波长越短，越无限接近绝对直线的光。
而在EUV光源技术上，据康驰目前所能查到的资料来看，国内的常春光所应该也已经接近突破的边缘了，但具体到了哪一步，康驰也不清楚。
他打算先试着了解一下情况，
如果条件允许，价格合适的话，他可能会直接向他们进行采购，
哪怕技术稍微不达标，采购过来自己再进行改良优化，也能节省大量的时间和精力。
毕竟一台光刻机里面，有足足十几二十万的零部件，全靠大唐重工自己来做的话，那得搞到猴年马月去。
而向他们采购，既不浪费他们的科研成果，还能利用上他们的生产力，
也算是共赢了。
所以康驰这次，并不排斥自己成为组装、调试和改良的角色。
放着华国这么完整的产业链不用，反倒自己去搓每个螺丝，不但浪费国内这么好资源和基础，更是闭门造车吃独食的表现。
而能用本国的产业链，来完成一台光刻机的所有零件制造，全球有且只有一个国家才有可能做到，
那就是华国。
换成老M也不行。
他们也没办法只在本国，就找到光刻机全部零部件的供应商，得全球多国合作协同才行。
而巨大的资源协调成本，更是会大大加重整个研发项目的费用和时间，
这也是华国的很多产品，能做到成本远低于国外厂商的主要原因之一。
总之，无论常春光所有没有突破EUV光源的技术，康驰都可以尝试着借用他的研发制造能力，来迅速获得一套可行的光源系统。
现在光刻的光有了，
下一步就是把光，通过一个光学系统，收集并投影到涂上了光刻胶的硅片上面。
这个光学系统，也是整台光刻机中，造价成本占比最大的。
这部分康驰准备对大秦光学的镜头生产线，进行升级，然后把它给拆了，直接获得光刻机镜片和反射镜制造，所需要的大部分设备零件。
这么做的效率无疑会高很多，
而且升级后的生产线，估计连解析项目都没有，
因为里面的大部分技术，康驰在解析光刻机的时候，就已经得到了，他本人拥有非常大的解释空间。
唯一的缺点就是，需要他在接下的项目中，进行一定的混淆视听，把这些拆分开的组件，神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。
嗯，
就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究，
到时候估计也是康驰让他们干什么，他们就干什么，思考空间并不多。
至于光刻机最后的一个关键系统，则是承载硅片的双工件台系统。
它的工作原理很简单，就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位，但其中的技术含量其实非常大。
因为这个工作平台必须快、准、狠。
速度，决定了光刻机的效率，
移动太慢了，光刻机的产量就不行，
这就要求它，在高速移动后，还得迅速且精准地停下，
停留的位置误差，还得在1nm以内，
但凡偏差大一点，整个晶圆就直接报废了！
这啥概念？
大概就是一辆高速行驶的汽车，突然紧急刹停，然后停下位置误差还不能超过1毫米。
不过这个难点，在今年5月份的时候，刚好被铪工大给搞定了，
他们研发出来的真空高速超精激光干涉仪，位移的分辨率达到了惊人的5pm，位移误差控制在了30pm！
要知道，1000pm才等于1nm！
0.03nm的位移误差，简直牛逼到不行！
康驰简直怀疑，他们是不是和自己一样开了挂……
讲真，华国能人还是挺多的，
如果不靠系统，康驰自己虽然也有一定的把握可以攻克这种技术，但时间就不知道要多久了……
所以康驰一直也不断地在提醒自己，虽然系统确实好用，但自己学习和理解的脚步同样不能停下。
这不但是为了在解析技术的时候，减轻自己的痛苦