据王磊对光刻机发展进程的了解，想要从248nm进化到193nm并不是最难的一步。
用不了几年，尼康、佳能、以及美丽国的gca都会相继走到这一步。
最困难的还是向157nm的技术升级。
所有的大厂商都被卡在这一步上。
谁先迈出这一步，便会奠定一超多强的格局，彻底成为光刻机行业的霸主。
拜尔斯也没有预料到王磊的野心会如此的大，刚完成了技术升级，又开始琢磨着下一代光刻机。
“你放心，不管研发中遇到多少困难，我都会全力支持你们的研发！”
说这话的时候，王磊却将思绪飘到了台积电。
那里有一位龙裔科学家，堪称半导体“鬼才”一般的存在。
正是他提出了一种较为大胆的理念——浸没式！
他创造性的提出用水作为曝光介质，光源波长还是用原来的193nm，但通过水的折射，使进入光阻的波长缩小到134nm。
以前的干式法中，曝光介质用的是空气。
它们的区别在于折射率，193nm光源在空气中的折射率为1，在水中折射率为1.4。
这也就意味着相同光源条件下，浸没式光刻机的分辨率可以提高1.4倍。
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